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CVD高温管式气氛炉
CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验。
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【纯水设备】主要是分离溶液中的离子范围，它无需加热，更没有相变过程，因此比传统的方法能耗低。用反渗透装置，处理工业用水，不耗用大量酸碱，无二次污染，它的运行费用也比较低。反渗透膜分离技术，简称RO技术。
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