上海思峻机械设备有限公司
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鳞片石墨分散机,鳞片石墨研磨分散机,石墨分散机,石墨烯研磨分散机,石墨烯分散设备,SGN研磨分散机采用二X结构，“胶体磨+分散机”一体化设备，先研磨后分散，配合14000rpm高转速，分散效果好。
鳞片石墨广泛用于治金工业的高X耐火材料与涂料。如镁碳砖、坩埚等。军事工业火工材料安定剂、冶炼工业脱硫增速剂、轻工业的铅笔芯、电气工业的碳刷、电池工业的电极、化肥工业的催化剂等。鳞片石墨经过深入加工，又可以生产出石墨乳，用于润滑剂、脱模剂、拉丝剂、导电涂料等。还可以生产膨胀石墨，用于柔性石墨制品原料，如柔性石墨密封件及柔性石墨复材料制品等。
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鳞片石墨作为涂料的功能填料主要用于防腐涂料、防火涂料和导电涂料。作为防腐材料，它和炭黑、滑石粉及油料等制成的防锈底漆，具有良好的耐化学品和溶剂腐蚀性能；若在配方中加入锌黄等化学颜料，其防锈效果更好。
鳞片石墨可直接作为碳类导电填料亦可制成复合导电填料用于导电涂料。但由于石墨鳞片的添加量较大，会使涂料的性能变脆而使其应用受到一定限制。因此，采取措施进一步提高石墨的导电性，X降低石墨鳞片的添加量。
SGN鳞片石墨研磨分散机是结合研磨和分散功能的一体化的设备。研磨：利用剪切力、摩擦力或冲击力将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒；分散：纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离、润湿、分布均匀及稳定目的。
在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米X粉体研磨及分散关键技术。
SGN石墨烯研磨分散设备采用德国X的高速研磨分散技术，通过X高转速（高可达14000rpm）带动X高精密的磨头定转子（通常配GM+8SF，定转子间隙在0.2-0.3之间）使石墨烯浆料在设备的高线速度下形成湍流，在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质，从而得出X细的颗粒（当然也需要合适的分散剂做助剂）。
鳞片石墨研磨分散机是由胶体磨，分散机组合而成的高科技产品。
初X由具有精细度递升的多X锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每X都可以改变方向。X二X由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
GMD2000系列研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到X低，保证机器连续24小时不停机运行。
GMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的多X锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每X都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
GMD2000系列鳞片石墨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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